Для цитирования:

Раззоков А.Ш. Выращивание эпитаксиальных слоев твердого раствора Si_1-x-yGe_xSn_y из оловянного раствора-расплава. Сибирский физический журнал. 2023;18(1):53-60. https://doi.org/10.25205/2541-9447-2023-18-1-53-60

For citation:

Razzokov A.Sh. Growth of Epitaxial Layers of the Si_1-x-yGe_xSn_y Solid Solution from a Tin Solution-Melt. SIBERIAN JOURNAL OF PHYSICS. 2023;18(1):53-60. (In Russ.) https://doi.org/10.25205/2541-9447-2023-18-1-53-60