Preview

Сибирский физический журнал

Расширенный поиск

Критический размер террасы кремния (001) для зарождения вакансионных островков при высокотемпературном отжиге

https://doi.org/10.25205/2541-9447-2019-14-1-77-85

Аннотация

С применением in situ метода сверхвысоковакуумной отражательной электронной микроскопии исследован процесс формирования на поверхности кремния (001) системы концентрических ступеней, разделенных широкими террасами. Показана возможность управления шириной террас с помощью компенсации сублимации внешним потоком атомов. Измерены температурные зависимости критического диаметра террас для зарождения нового вакансионного островка в интервале температур 1 070-1 160 °С в двух направлениях - вдоль и поперек димерных рядов атомов сверхструктуры (1 × 2). Продемонстрировано увеличение критического диаметра с ростом потока атомов. Установлено, что с увеличением температуры анизотропия критического размера уменьшается и при температурах выше 1 125 °С критический размер террасы вдоль и поперек димерных рядов атомов в пределах погрешности совпадает. В рамках атомистической теории зарождения круглого двумерного островка определена кинетика зарождения островков, оценены величины критического зародыша, энергии связи в зародыше и разницы энергий диффузии вдоль и поперек димерных рядов.

Об авторах

Е. Е. Родякина
Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН; овосибирский государственный университет
Россия


С. В. Ситников
Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН
Россия


А. В. Латышев
Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН; овосибирский государственный университет
Россия


Рецензия

Для цитирования:


Родякина Е.Е., Ситников С.В., Латышев А.В. Критический размер террасы кремния (001) для зарождения вакансионных островков при высокотемпературном отжиге. Сибирский физический журнал. 2019;14(1):77-85. https://doi.org/10.25205/2541-9447-2019-14-1-77-85

For citation:


Rodyakina E.E., Sitnikov S.V., Latyshev A.V. Critical Terrace Width for Vacancy Islands Nucleation on Wide Terrace of Silicon (001) Surface under High Temperature Annealing. SIBERIAN JOURNAL OF PHYSICS. 2019;14(1):77-85. (In Russ.) https://doi.org/10.25205/2541-9447-2019-14-1-77-85

Просмотров: 150


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 2541-9447 (Print)