Для цитирования:

Саидов А.С., Раззоков А.Ш. Получение и морфологические исследования эпитакcиальных слоев твердого раствора Si_1–xGe_x. Сибирский физический журнал. 2020;15(2):84-91. https://doi.org/10.25205/2541-9447-2020-15-2-84-91

For citation:

Saidov A.S., Razzokov A.Sh. Preparation and Morphological Studies of Epitaxial Layers of a Solid Solution Si_1–xGe_x. SIBERIAN JOURNAL OF PHYSICS. 2020;15(2):84-91. (In Russ.) https://doi.org/10.25205/2541-9447-2020-15-2-84-91